一种采用磁悬浮技术的光刻机掩模台

摘要

本发明提出一种采用磁悬浮技术的光刻机掩模台，主要由精密导轨、基座、悬浮体等组成。悬浮体内安装有电磁铁，结合涡流位移传感器，实现悬浮体稳定悬浮在导轨上方；直线电机定子固定在基座上，直线电机动子固定在悬浮体上，导轨面上设有光栅尺，结合安装在悬浮体上的光栅尺读数头，实现悬浮体精密直线定位运动。本发明所提出的磁悬浮光刻机掩模台利用电磁吸力、电磁直线驱动使光刻机掩模台完成无机械接触式的往返精密快速直线定位运动，可以实现使用旋转伺服电机驱动、精密滚珠丝杆传动和滑动导轨支撑的传统方案所无法实现的超洁净、高速度、大行程、精密定位运动等功能，具有比气悬浮光刻机掩模台更大的悬浮刚度和更好的承载特性。

主权项

一种采用磁悬浮技术的光刻机掩模台，其特征在于，导轨固设在基座上，在悬浮体的竖直方向和沿导轨的水平方向均设有电磁铁，悬浮体上设有用于检测悬浮体各方向运动状态的涡流位移传感器；悬浮体在电磁铁驱动力、涡流位移传感器反馈作用下稳定悬浮于导轨的上方；直线电机的定子沿导轨方向固定在基座上，直线电机的动子固定在悬浮体上，定子与动子之间无机械接触；在导轨面上设有光栅尺，在悬浮体上设有光栅尺读数头；悬浮体包括直板式的连接件、C形结构的左支板和C形结构的右支板，左支板和右支板相向设置在连接件的左右两个侧边上；导轨采用五面型结构；在悬浮体竖直方向上设置的电磁铁为U型电磁铁，共4对，在悬浮体水平方向上设置的电磁铁为E型电磁铁，共2对；采用双电机驱动模式，直线电机为2台，光栅尺及其读数头均为2套；涡流位移传感器为6个，其中4个涡流位移传感器安装在悬浮体的上表面上的电磁铁附近，另外2个涡流位移传感器安放在悬浮体的侧面电磁铁附近。