发明名称 |
大口径平面光学元件的快速抛光横移式加工方法 |
摘要 |
大口径平面光学元件的快速抛光横移式加工方法,涉及一种大口径平面光学元件。提供一种大口径平面光学元件的快速抛光横移式加工方法。采用数控抛光机床,设有抛光盘、抛光垫、真空薄膜、工件旋转轴、修整轮、修整轮轴和工作横移轴。选择加工方式,设定加工参数,利用空间坐标变换和傅立叶级数计算工件相对抛光盘速度的步骤;利用压强分布表面模型计算工件横移过程中的压强分布,对工件一个横移加工周期进行线性切割,结合普林斯顿公式得到工件不同半径上点的材料去除率的步骤;计算工件上不同半径上点露出抛光盘和落入不同压强区域的几率,采用比值对所得材料去除率加权赋值,预测加工后工件面型变化趋势,加工后检测结果与预测相符合的步骤。 |
申请公布号 |
CN101670541B |
申请公布日期 |
2012.05.23 |
申请号 |
CN200910112548.4 |
申请日期 |
2009.09.15 |
申请人 |
厦门大学 |
发明人 |
郭隐彪;林静;杨炜;柯晓龙 |
分类号 |
B24B13/00(2006.01)I;B24B7/24(2006.01)I;C09G1/02(2006.01)I |
主分类号 |
B24B13/00(2006.01)I |
代理机构 |
厦门南强之路专利事务所 35200 |
代理人 |
马应森 |
主权项 |
大口径平面光学元件的快速抛光横移式加工方法,其特征在于采用数控抛光机床,所述数控抛光机床设有抛光盘、抛光垫、真空薄膜、工件旋转轴、修整轮、修整轮轴和工作横移轴,抛光盘设有抛光盘旋转轴,抛光盘在抛光盘旋转轴带动下独立旋转,抛光垫设在抛光盘上,工件设在抛光垫的工件旋转轴上,真空薄膜设在工件表面,在抛光垫上注入抛光液;所述加工方法包括以下步骤:1)1个选择加工方式,设定加工参数,利用空间坐标变换和傅立叶级数计算工件相对抛光盘的速度的步骤;2)1个利用压强分布表面模型计算工件横移过程中的压强分布,对工件一个横移加工周期进行线性切割,结合普林斯顿公式得到工件不同半径上点的材料去除率的步骤;3)1个计算工件上不同半径上点露出抛光盘和落入不同压强区域的几率,根据几率采用比值对所得到的材料去除率MRR进行加权赋值,预测加工后工件面型变化趋势,加工后检测结果与预测相符合的步骤。 |
地址 |
361005 福建省厦门市思明南路422号 |