| 发明名称 | 光矩阵设备的制造方法 | ||
| 摘要 | 根据本发明的光矩阵设备的制造方法，在形成印刷图案的作为基底层的绝缘膜(2)上形成促进被印刷涂布的液滴(7)延伸的延伸促进图案(PS)，因此液滴(7)沿着延伸促进图案(PS)延伸。并且，在印刷图案的末端部以与印刷图案、即延伸促进图案(PS)相交叉的方式将延伸抑制图案(PH)形成在绝缘膜(2)上，因此沿着延伸促进图案(PS)延伸的液滴(7)由于延伸抑制图案(PH)而停止延伸。由此，能够高精确度地进行作为液体的液滴(7)的位置控制。 | ||
| 申请公布号 | CN102473712A | 申请公布日期 | 2012.05.23 |
| 申请号 | CN200980160877.4 | 申请日期 | 2009.08.11 |
| 申请人 | 株式会社岛津制作所 | 发明人 | 足立晋 |
| 分类号 | H01L27/146(2006.01)I;G01T1/24(2006.01)I;G09F9/00(2006.01)I;G09F9/30(2006.01)I;H01L21/288(2006.01)I;H01L21/3205(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/146(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇 |
| 主权项 | 一种光矩阵设备的制造方法，该光矩阵设备为将薄膜晶体管在基板上排列成二维矩阵状而构成，该制造方法使用了印刷法，该制造方法的特征在于，具备以下步骤：延伸促进图案形成步骤，在形成印刷图案的基底层上形成促进所涂布的液滴延伸的延伸促进图案；以及延伸抑制图案形成步骤，在上述印刷图案的末端部的基底层上形成抑制上述液滴延伸的延伸抑制图案。 | ||
| 地址 | 日本京都府 | ||