| 发明名称 | 一种化学机械抛光液及其使用方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种化学机械抛光液，所述化学机械抛光液包括：水，研磨剂和强氧化剂，所述强氧化剂的标准电极电位大于0.52V。本发明的化学机械抛光液中加入了强氧化剂可以获得很高的抛光速度，加速了碳元素的化学机械抛光。 | ||
| 申请公布号 | CN102464944A | 申请公布日期 | 2012.05.23 |
| 申请号 | CN201010533829.X | 申请日期 | 2010.11.05 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 王晨;何华锋 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;H01L21/306(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光液，包括：水，研磨剂和强氧化剂，所述强氧化剂的标准电极电位大于0.52V。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||