发明名称 研磨液组合物
摘要 本发明系关于一种满足以下条件之含有研磨材与水且pH值为0.1~7之研磨液组合物:(1)每1 cm3研磨液组合物中,0.56μm以上且未达1μm之研磨粒子为500,000个以下,以及(2)对于研磨液组合物中之全部研磨粒子,1μm以上之研磨粒子为0.001重量%以下;又,关于一种满足以下条件且含有研磨材与水之研磨粒子调制液,其用于上述研磨液组合物之调制:(i)每1 cm3研磨粒子调制液中,0.56μm以上且未达1μm之研磨粒子为500,000个以下,以及(ii)对于研磨粒子调制液中之全部研磨粒子,1μm以上之研磨粒子为0.001重量%以下;又,关于一种具有以下纯化步骤之上述研磨液组合物之制造方法,其步骤I中之过滤器入口压力之变动幅度为50 kPa以下:(I)以深度型过滤器过滤纯化前之研磨液组合物,获得中间过滤物之步骤,以及(II)以波浪型过滤器过滤此中间过滤物,获得研磨液组合物之步骤;又,关于一种具有以下纯化步骤之上述研磨粒子调制液之制造方法,其步骤I'中之过滤器入口压力之变动幅度为50 kPa以下:(I')以深度型过滤器过滤纯化前之研磨粒子调制液,获得中间过滤物之步骤,以及(II')以波浪型过滤器过滤此中间过滤物,获得研磨粒子调制液之步骤;以及,关于一种基板之制造方法,其具有使用上述研磨液组合物藉由研磨机研磨基板之步骤。
申请公布号 TWI364450 申请公布日期 2012.05.21
申请号 TW094123663 申请日期 2005.07.13
申请人 花王股份有限公司 日本 发明人 西本和彦;平幸治;末永宪一;本间佑一
分类号 C09K3/14;C09G1/02;B24D3/02 主分类号 C09K3/14
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 日本