靶冷却装置

摘要

本发明涉及激光沉积装置，包括：至少一个靶，与所述至少一个靶相对布置的基底以及用于产生激光束的激光器，所述激光束指到所述靶上，使得靶材的等离子体羽流被产生并且沉积到所述基底上，所述激光沉积装置还包括：基部框架、具有布置在所述基部框架中的至少两个靶保持器的可旋转靶框架以及布置于所述基部框架上的至少一个冷却器装置，所述冷却装置能够相对于所述靶框架移动，以使所述冷却装置与所述靶框架热交换接触。

主权项

激光沉积装置，包括：至少一个靶、与所述至少一个靶相对布置的基底以及用于产生激光束的激光器，所述激光束指到所述靶上，使得靶材的等离子体羽流被产生并且沉积到所述基底上，其特征在于基部框架、具有布置在所述基部框架中的至少两个靶保持器的可旋转靶框架以及布置于所述基部框架上的至少一个冷却装置，所述冷却装置能够相对于所述靶框架移动以使所述冷却装置与所述靶框架热交换接触。