| 发明名称 | 光反射基板及其制造方法 | ||
| 摘要 | 一种用于安装发光元件(22)的光反射基板(30)，所述光反射基板(30)至少包括绝缘层(32)和与所述绝缘层接触的金属层(33)。所述光反射基板的特征在于：金属层由铝形成；绝缘层为阳极氧化的铝涂布膜；所述光反射基板的表面具有平均波长为0.01-100μm的粗糙度；并且320nm至700nm的光的全反射率不小于50％，并且300nm至320nm的光的全反射率不小于60％。所述基板提高了安装在其上的发光元件的发光输出。 | ||
| 申请公布号 | CN102460749A | 申请公布日期 | 2012.05.16 |
| 申请号 | CN201080028235.1 | 申请日期 | 2010.06.23 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 畠中优介;堀田吉则;上杉彰男 |
| 分类号 | H01L33/60(2006.01)I;H01L33/50(2006.01)I | 主分类号 | H01L33/60(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 陈平 |
| 主权项 | 一种光反射基板，所述光反射基板至少包括：绝缘层；和金属层，所述金属层与所述绝缘层接触安置，其中在大于320nm并且不大于700nm的波长范围内的光的全反射率不小于50％，并且在300nm至320nm的波长范围内的光的全反射率不小于60％。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||