| 发明名称 | 用于提高等离子体工艺中的处理均匀性的设备和方法 | ||
| 摘要 | 用于提高等离子体工艺中的处理均匀性的设备和方法。在等离子体处理期间绕工件(30)的外周边缘(31)延伸的耗蚀性体(104)由等离子体可去除材料组成。该耗蚀性体(104)可以包括被布置为限定圆形几何形状的多个部分(168、170)。耗蚀性体(104)起作用以增大工件(30)的有效外径，它通过有效降低工件(30)的外周边缘(31)附近的蚀刻速度来减轻等离子体处理所固有的有害的边缘效应。 | ||
| 申请公布号 | CN101681785B | 申请公布日期 | 2012.05.09 |
| 申请号 | CN200880018444.0 | 申请日期 | 2008.05.23 |
| 申请人 | 诺信公司 | 发明人 | 赵建钢;詹姆士·D·格蒂 |
| 分类号 | H01J37/32(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 张建涛;车文 |
| 主权项 | 一种用于在对工件进行等离子体处理中使用的设备，所述工件具有外周边缘，所述设备包括：由等离子体可去除材料构成的耗蚀性体，所述耗蚀性体包括多个部分，所述多个部分布置为当以并置关系放置时具有环形几何形状，所述多个部分适于绕所述工件的所述外周边缘同心布置，使得有效增大所述工件的外径。 | ||
| 地址 | 美国俄亥俄州 | ||