| 发明名称 | 光刻胶组合物和形成光刻图案的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供用于通过负型显影工艺形成光刻图案的光刻胶组合物，还提供通过负型显影工艺形成光刻图案的方法和由上述光刻胶组合物涂覆的基底.上述组合物、方法以及涂覆的基底在制造半导体器件中有特别的应用。 | ||
| 申请公布号 | CN102445848A | 申请公布日期 | 2012.05.09 |
| 申请号 | CN201110430673.7 | 申请日期 | 2011.09.13 |
| 申请人 | 罗门哈斯电子材料有限公司;陶氏环球技术有限公司 | 发明人 | Y·C·裴;T·卡多拉西亚;孙纪斌;D·J·阿里奥拉;K·A·弗雷泽 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01)I;G03F7/038(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/004(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 陈哲锋 |
| 主权项 | 1.一种光刻胶组合物，所述组合物包括：共聚物，所述共聚物包括：由包含可聚合官能团；和下列式(I)或式(II)的第一部分的单体形成的第一单元：<img file="FSA00000640700800011.GIF" wi="411" he="299" />其中：R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>独立地选自(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)直链、支链和环状的有机基团，可选地共同形成环；并且a或b是1且a或b的另一个是1或2；<img file="FSA00000640700800012.GIF" wi="470" he="402" />其中：R<sub>3</sub>和R<sub>4</sub>独立地选自(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)直链、支链和环状的有机基团，可选地共同形成环；并且c或d是1且c或d的另一个是1或2；以及一个或多个附加单元；其中该共聚物不含酸可解离的基团，该基团的解离会导致形成羧酸基团；以及光酸发生剂。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞州 | ||