发明名称 |
一种去离子水槽 |
摘要 |
本发明提供一种外表面带有防水挡板的去离子水槽,其包括水槽主体,过渡传感器,上挡板和侧挡板。过渡传感器固定在离子水槽的外表面上,上挡板固定在过渡传感器的上方,侧挡板与上挡板相连接,固定在过渡传感器的两侧。使水槽内溢出来的水流向发生改变而不经过晶圆过渡传感器,不但延长传感器密封圈的寿命,也保护了传感器正常工作,避免晶圆误被探测而发出报警信号中断整个研磨过程,导致晶圆研磨的不持续性,造成晶圆存在表面缺陷,非常适于实用。 |
申请公布号 |
CN102441542A |
申请公布日期 |
2012.05.09 |
申请号 |
CN201110250237.1 |
申请日期 |
2011.08.29 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
陈勇志;邢杰;王贝易;倪立华 |
分类号 |
B08B3/04(2006.01)I |
主分类号 |
B08B3/04(2006.01)I |
代理机构 |
上海新天专利代理有限公司 31213 |
代理人 |
王敏杰 |
主权项 |
一种去离子水槽,其包括水槽主体,过渡传感器,上挡板和侧挡板,其特征在于,过渡传感器固定在离子水槽的外表面上,上挡板固定在过渡传感器的上方,侧挡板与上挡板相连接,固定在过渡传感器的两侧。 |
地址 |
201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 |