发明名称 一种去离子水槽
摘要 本发明提供一种外表面带有防水挡板的去离子水槽,其包括水槽主体,过渡传感器,上挡板和侧挡板。过渡传感器固定在离子水槽的外表面上,上挡板固定在过渡传感器的上方,侧挡板与上挡板相连接,固定在过渡传感器的两侧。使水槽内溢出来的水流向发生改变而不经过晶圆过渡传感器,不但延长传感器密封圈的寿命,也保护了传感器正常工作,避免晶圆误被探测而发出报警信号中断整个研磨过程,导致晶圆研磨的不持续性,造成晶圆存在表面缺陷,非常适于实用。
申请公布号 CN102441542A 申请公布日期 2012.05.09
申请号 CN201110250237.1 申请日期 2011.08.29
申请人 上海华力微电子有限公司 发明人 陈勇志;邢杰;王贝易;倪立华
分类号 B08B3/04(2006.01)I 主分类号 B08B3/04(2006.01)I
代理机构 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人 王敏杰
主权项 一种去离子水槽,其包括水槽主体,过渡传感器,上挡板和侧挡板,其特征在于,过渡传感器固定在离子水槽的外表面上,上挡板固定在过渡传感器的上方,侧挡板与上挡板相连接,固定在过渡传感器的两侧。
地址 201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号