发明名称 |
真空成膜装置以及真空成膜装置的挡板位置检测方法 |
摘要 |
当进行挡板(21)的位置检测时,从检测器(光传感器)(24)例如照射激光(L)。照射的激光(L)经由腔室(1)的窗(25)到达挡板(21)。然后,由挡板(21)的表面反射并再次射入检测器(24)。检测器(24)检测从该激光(L)的射出到反射光的射入的时间。 |
申请公布号 |
CN102449188A |
申请公布日期 |
2012.05.09 |
申请号 |
CN201080023988.3 |
申请日期 |
2010.06.23 |
申请人 |
株式会社爱发科 |
发明人 |
藤井佳词 |
分类号 |
C23C14/34(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/34(2006.01)I |
代理机构 |
北京德琦知识产权代理有限公司 11018 |
代理人 |
齐葵;王诚华 |
主权项 |
一种真空成膜装置,其特征在于,具备:腔室,内部保持真空;工作台,在该腔室内形成,用于放置挡板;靶,与该工作台相对而配置;挡板机构,在所述工作台和所述靶之间插脱自如地形成,并具有用于保持所述挡板的臂;以及检测器,在所述挡板被所述臂保持的状态下,检测所述挡板从保持基准位置的偏移。 |
地址 |
日本神奈川县 |