发明名称 | 基于绝缘层上硅技术快闪存储器结构光敏可控器件 | ||
摘要 | 基于SOI快闪存储器结构的NMOSFET光敏可控器件,包括p型半导体衬底,设有衬底接触电极,衬底上设有n型重掺杂源区和漏区,衬底上依次为隧穿氧化层、电荷存储层层、阻挡氧化层和控制栅。工作在电信号增大模式下时,首先对器件进行擦除,使电荷存储层中存有大量空穴,工作时,将栅极和衬底短接并浮空,源极接地,漏极加正电压,测试漏端电流;对器件进行擦除操作,使电荷存储层中存有大量空穴,工作时,将栅极和衬底短接并浮空,源极接地,漏极加正电压,电压大小为0.01V至3V,测试漏端电流。 | ||
申请公布号 | CN102437230A | 申请公布日期 | 2012.05.02 |
申请号 | CN201110382683.8 | 申请日期 | 2011.11.28 |
申请人 | 南京大学 | 发明人 | 闫锋;吴福伟 |
分类号 | H01L31/111(2006.01)I | 主分类号 | H01L31/111(2006.01)I |
代理机构 | 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 | 代理人 | 陈建和 |
主权项 | 基于SOI快闪存储器结构的NMOSFET光敏可控器件,其特征是包括p型半导体衬底,设有衬底接触电极,衬底上设有n型重掺杂源区和漏区,衬底上依次为隧穿氧化层、电荷存储层层、阻挡氧化层和控制栅。 | ||
地址 | 210093 江苏省南京市鼓楼区汉口路22号 |