发明名称 一种衬底表面喷射裂解硒源的方法
摘要 本发明涉及一种衬底表面喷射裂解硒源的方法,包括将硒蒸气进入高温裂解室,硒蒸气在高温裂解室内穿过孔径0.2-0.5mm均匀布满孔的两层多孔栅板,硒蒸气形成裂解硒源,所述裂解硒源喷射到衬底表面,完成在衬底表面喷射裂解硒源的过程。本发明采用将硒蒸气高温穿过两层多孔栅板,由Sen(n≥5)大原子团裂解为Sen(n<5)小原子团,增加了高活性Se2的数量,提高了硒元素的反应活性,有效改善了铜铟镓硒薄膜太阳电池CIGS层的成膜质量,对提高铜铟镓硒薄膜太阳电池的光电转换效率起到积极作用;通过喷孔把小原子团的硒蒸气直接喷射到衬底表面,使硒材料充分参与CIGS层的反应成膜过程,从而提高硒材料利用率。
申请公布号 CN102433550A 申请公布日期 2012.05.02
申请号 CN201110433136.8 申请日期 2011.12.21
申请人 中国电子科技集团公司第十八研究所 发明人 张颖武;赵彦民;乔在祥
分类号 C23C16/455(2006.01)I;C23C16/22(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I 主分类号 C23C16/455(2006.01)I
代理机构 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 代理人 李凤
主权项 一种衬底表面喷射裂解硒源的方法,包括将硒源蒸发室中的固态硒加热,产生硒蒸气,其特征在于:将所述硒蒸气进入温度500‑800℃的高温裂解室,硒蒸气在高温裂解室内穿过孔径0.2‑0.5mm均匀布满孔的两层多孔栅板,硒蒸气形成裂解硒源,所述裂解硒源通过温度大于400‑500℃的出气管道喷射到衬底表面,完成在衬底表面喷射裂解硒源的过程。
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