| 发明名称 | 层叠体形成用乙烯-不饱和酯共聚物薄膜 | ||
| 摘要 | 本发明提供用于层叠体的形成的乙烯-不饱和酯共聚物薄膜，该薄膜形成了有效防止薄膜保管时的粘连等的压花，且具有层叠工序中定位所必需的良好粘性。一种层叠体形成用薄膜(40)，其特征在于，该薄膜由含有乙烯-不饱和酯共聚物的组合物形成，仅仅在所述薄膜的一个面(41)上具有压花，所述具有压花的面的相反面(42)上形成有微细凹凸(43)，该凹凸的平均间隔Sm为600～1600μm，且表面的算术平均粗糙度Ra为1.2～2.2μm。 | ||
| 申请公布号 | CN102438963A | 申请公布日期 | 2012.05.02 |
| 申请号 | CN201080022205.X | 申请日期 | 2010.05.12 |
| 申请人 | 株式会社普利司通 | 发明人 | 井上佳彦;池田哲朗 |
| 分类号 | C03C27/12(2006.01)I;H01L31/042(2006.01)I | 主分类号 | C03C27/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;李茂家 |
| 主权项 | 一种层叠体形成用薄膜，其特征在于，该薄膜由含有乙烯‑不饱和酯共聚物的组合物形成，仅仅在所述薄膜的一个面上具有压花，所述具有压花的面的相反面上形成有微细凹凸，该凹凸的平均间隔Sm为600～1600μm，且表面的算术平均粗糙度Ra为1.2～2.2μm。。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||