微影装置及元件制造方法

摘要

本发明提供一种浸润微影曝光装置，其中选择浸液之顶部涂层之pH以最大化相对速度，在此相对速度下，液体供应系统之一部分与基板W可相对于彼此移动而不发生在彼等组件之间延伸的一弯液面之崩溃。