| 发明名称 |
Verfahren zum Herstellen von Fotolackmasken für Halbleiterzwecke |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
CH485327(A) |
申请公布日期 |
1970.01.31 |
| 申请号 |
CH19680015810 |
申请日期 |
1968.10.23 |
| 申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
HENKER,HEINZ,DR. |
| 分类号 |
H01J37/317;H01L21/00;(IPC1-7):H01L7/68;H01J37/30 |
主分类号 |
H01J37/317 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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