| 发明名称 | 可挠式超级电容结构与其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明是一种可挠式超级电容结构与其制备方法，该可挠式超级电容的可挠式电极复合层，利用金属结构刺穿并固定其碳纤维层与金属集电层，使电极复合层于挠曲时还能使其复合层间彼此密合。 | ||
| 申请公布号 | CN101740223B | 申请公布日期 | 2012.04.25 |
| 申请号 | CN200810174894.0 | 申请日期 | 2008.11.11 |
| 申请人 | 财团法人纺织产业综合研究所 | 发明人 | 林文婷;陈宏昌;蔡晓宽 |
| 分类号 | H01G9/00(2006.01)I;H01G9/155(2006.01)I;H01G9/048(2006.01)I;H01G9/058(2006.01)I;H01G9/08(2006.01)I | 主分类号 | H01G9/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 任永武 |
| 主权项 | 一种可挠式超级电容结构，至少包含：两可挠式电极复合层，各包含一碳纤维层与一金属集电层以一连续金属线或多个独立的钉针刺穿固定两层，并使该碳纤维层与该金属集电层贴合；以及一隔离层，位于该两可挠式电极复合层之间。 | ||
| 地址 | 中国台湾台北县土城市承天路6号 | ||