发明名称 |
Sodium Salt Containing CIG Targets, Methods of Making and Methods of Use Thereof |
摘要 |
A sputtering target includes at least one metal selected from copper, indium and gallium and a sodium containing compound. |
申请公布号 |
US2012094429(A1) |
申请公布日期 |
2012.04.19 |
申请号 |
US201113073159 |
申请日期 |
2011.03.28 |
申请人 |
JULIANO DANIEL R.;TAS ROBERT;MACKIE NEIL;ZIANI ABDELOUAHAB |
发明人 |
JULIANO DANIEL R.;TAS ROBERT;MACKIE NEIL;ZIANI ABDELOUAHAB |
分类号 |
H01L31/0272;B05D5/12;C23C14/14;C23C26/00 |
主分类号 |
H01L31/0272 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|