发明名称 Sodium Salt Containing CIG Targets, Methods of Making and Methods of Use Thereof
摘要 A sputtering target includes at least one metal selected from copper, indium and gallium and a sodium containing compound.
申请公布号 US2012094429(A1) 申请公布日期 2012.04.19
申请号 US201113073159 申请日期 2011.03.28
申请人 JULIANO DANIEL R.;TAS ROBERT;MACKIE NEIL;ZIANI ABDELOUAHAB 发明人 JULIANO DANIEL R.;TAS ROBERT;MACKIE NEIL;ZIANI ABDELOUAHAB
分类号 H01L31/0272;B05D5/12;C23C14/14;C23C26/00 主分类号 H01L31/0272
代理机构 代理人
主权项
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