发明名称 抗反射硬掩模组合物及其使用方法
摘要 提供了用于平版印刷工艺中的具有抗反射性能的硬掩模组合物,使用该组合物的方法,和通过该方法制造的半导体装置。本发明的抗反射硬掩模组合物包含:a)聚合物组分,其包含第一单体单元和第二单体单元,其中所述第一单体单元和所述第二单体单元均包含芳基,且其中所述第一单体单元和所述第二单体单元中的至少一种包含酚基;b)交联组分;和c)酸性催化剂。
申请公布号 CN101185030B 申请公布日期 2012.04.18
申请号 CN200680018573.0 申请日期 2006.03.07
申请人 第一毛织株式会社 发明人 鱼东善;吴昌一;金到贤;李镇国;南艾丽娜
分类号 G03F7/11(2006.01)I 主分类号 G03F7/11(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 于辉
主权项 1.一种抗反射硬掩模组合物,包含:a)1重量%至20重量%的聚合物组分,其包含第一聚合物和第二聚合物,其中第一聚合物包含具有式(I)结构的第一单体单元,且第一聚合物的重均分子量在1,000至30,000的范围内,和第二聚合物包含具有式(II)结构的第二单体单元,且第二聚合物的重均分子量在1,000至30,000的范围内,<img file="FSB00000697005100011.GIF" wi="976" he="388" />其中,R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>各自独立地选自氢和甲基;R<sub>3</sub>和R<sub>4</sub>各自独立地选自氢、交联官能团、发色团和它们的任意组合,其中所述交联官能团包括羟基和环氧基,所述发色团是选自以下的官能团:苯基、苯并菲基、芘基、荧蒽基、蒽酮基、二苯甲酮基、噻吨酮基、蒽基、蒽基衍生物和它们的组合;R<sub>5</sub>选自亚甲基、苯基二亚甲基、苯基亚甲基、羟基苯基亚甲基;并且m和n各自独立地是1至190范围内的正整数b)0.1重量%至5重量%的交联组分;和c)0.001重量%至0.05重量%的酸性催化剂;其中所述组合物的剩余重量百分比任选包括溶剂和/或表面活性剂。
地址 韩国庆尚北道