发明名称 |
彩色滤光阵列及其制造方法 |
摘要 |
一种彩色滤光阵列及其制造方法,该彩色滤光阵列包括基板、遮光图案层以及多个彩色滤光图案。遮光图案层位于基板上,遮光图案层具有多个单元开口,以暴露出基板的表面,其中遮光图案层的厚度为H。彩色滤光图案分别位于遮光图案层的单元开口内,每一彩色滤光图案具有最高膜厚值Lc以及最低膜厚值Ls,最高膜厚值Lc与最低膜厚值Ls的差值为ΔL,其中彩色滤光图案的最高膜厚值Lc满足0.83H<Lc<0.91H,遮光图案层的厚度满足1.6um<H<2.2um,且差值ΔL满足ΔL<0.39um。本发明可以降低彩色滤光图案的膜厚差异以改善显示器的颜色表现。 |
申请公布号 |
CN102419492A |
申请公布日期 |
2012.04.18 |
申请号 |
CN201110387759.6 |
申请日期 |
2011.11.24 |
申请人 |
友达光电股份有限公司 |
发明人 |
林宣甫;林承岳 |
分类号 |
G02F1/1335(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I;B41J2/01(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1335(2006.01)I |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 72003 |
代理人 |
李琳;张龙哺 |
主权项 |
一种彩色滤光阵列,包括:一基板;一遮光图案层,位于该基板上,该遮光图案层具有多个单元开口,以暴露出该基板的一表面,其中该遮光图案层的厚度为H;多个彩色滤光图案,分别位于该遮光图案层的所述多个单元开口内,每一彩色滤光图案具有一最高膜厚值Lc以及一最低膜厚值Ls,该最高膜厚值Lc与该最低膜厚值Ls的差值为ΔL,其中该彩色滤光图案的该最高膜厚值Lc满足0.83H<Lc<0.91H,该遮光图案层的厚度满足1.6um<H<2.2um,且该差值ΔL满足ΔL<0.39um。 |
地址 |
中国台湾新竹市 |