用于浸没式光刻的组合物和方法

摘要

提供了一种可用于浸没式光刻的新颖的光刻胶组合物。本发明优选的光刻胶组合物包含一种或多种基本不能与该光刻胶的树脂组分混合的材料。本发明进一步优选的光刻胶组合物包含1)Si取代基，2)氟取代基，3)超支化的聚合物和/或4)聚合物颗粒。在浸没式光刻过程中，使用本发明特别优选的光刻胶，可以减少光刻胶材料向与该光刻胶层接触的浸没液中的浸出。

主权项

一种用来处理光刻胶组合物的方法，该方法包括：(a)在基材上施涂包含以下组分的光刻胶组合物层：(i)一种或多种聚合物树脂，所述树脂包含一种或多种光生酸不稳定基团，(ii)光活性组分，(iii)一种或多种氟化的聚合物树脂，其a)含有一种或多种光生酸不稳定基团和(b)基本不能与所述(i)一种或多种聚合物树脂混合，从而所述(iii)一种或多种氟化的聚合物树脂在施涂过程中朝着光刻胶组合物层的上部迁移；所述(iii)一种或多种氟化的聚合物树脂不同于所述(i)一种或多种聚合物树脂；和(b)使所施涂的光刻胶层浸没式曝光于能够使该光刻胶组合物活化的辐射；其中所述光刻胶组合物提供的、在与浸没曝光相关的浸没液中检测到的酸或有机材料的量少于不含有所述(iii)一种或多种氟化的聚合物树脂的相同的光刻胶组合物所检测到的结果。