发明名称 |
粒子射线照射装置 |
摘要 |
本发明的目的在于提供一种既能抑制带电粒子束的最大可利用射程的减少、又能扩大束点的剂量分布的粒子射线照射装置。粒子射线照射装置包括粒子射线加速单元(1)、粒子射线输送单元(2)、具有带电粒子束扫描电磁铁和扫描电源(11)的扫描装置、及照射控制单元(14),所述扫描装置包括第一扫描单元(3)和第二扫描单元(4),该第一扫描单元(3)将带电粒子束进行扫描来形成伪扩大束点,该第二扫描单元(4)使所述伪扩大束点的位置与所述目标区域一致来进行扫描。 |
申请公布号 |
CN102421481A |
申请公布日期 |
2012.04.18 |
申请号 |
CN200980159292.0 |
申请日期 |
2009.06.03 |
申请人 |
三菱电机株式会社 |
发明人 |
蒲越虎;吉田克久;山本雄一;坂本豪信;本田泰三;原田久;岩田高明 |
分类号 |
A61N5/10(2006.01)I |
主分类号 |
A61N5/10(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
张鑫 |
主权项 |
一种粒子射线照射装置,包括:粒子射线加速单元,该粒子射线加速单元将带电粒子束进行加速;粒子射线输送单元,该粒子射线输送单元输送从所述粒子射线加速单元射出的带电粒子束;扫描装置,该扫描装置将所述粒子射线输送单元输送来的带电粒子束进行扫描;以及照射控制单元,该照射控制单元控制所述扫描装置,来控制对目标区域的照射,其特征在于,所述扫描装置包括:第一扫描单元,该第一扫描单元将带电粒子束进行扫描来形成伪扩大束点;以及第二扫描单元,该第二扫描单元使所述伪扩大束点的位置与所述目标区域一致来进行扫描。 |
地址 |
日本东京 |