发明名称 Verfahren zur Herstellung eines Halbleitermoduls und Halbleitermodul
摘要 Verfahren zur Herstellung eines Halbleitermoduls, welches ein mit einer Metallisierung versehenes Substrat (5) und mindestens ein als flaches Plättchen ausgebildetes Halbleiterbauelement (1) aufweist, welches an seiner Unterseite eine untere elektrische Anschlussfläche und an seiner Oberseite eine obere elektrische Anschlussfläche (3) aufweist, wobei das Halbleiterbauelement (1) einen Hauptstromzweig aufweist, welcher zwischen der elektrischen Anschlussfläche an der Unterseite und der elektrischen Anschlussfläche (3) an der Oberseite des Halbleiterbauelements (1) durch eine in einem gesperrtenne verläuft, bezüglich des Stromflusses im Hauptstromzweig seitliche Ränder der Sperrschichtzone mit seitlichen, zwischen Oberseite und Unterseite befindlichen Randbereichen des Halbleiterbauelements (1) zusammenfallen, und wobei das Herstellverfahren die folgenden Schritte umfasst: Verbinden der Metallisierung des Substrates (5) mit der unteren Anschlussfläche an der Unterseite des Halbleiterbauelements (1), Verfüllen des Raumes seitlich des Halur Oberseite des Halbleiterbauelements (1) mit einer isolierenden Masse...
申请公布号 DE102008058003(B4) 申请公布日期 2012.04.05
申请号 DE20081058003 申请日期 2008.11.19
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 KANSCHAT, PETER, DR.;PAUL, INDRAJIT
分类号 H01L23/482;H01L21/56;H01L21/58;H01L21/60 主分类号 H01L23/482
代理机构 代理人
主权项
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