发明名称 |
一种制备光散射薄膜的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种制备光散射薄膜的方法,其包括以下步骤:(1)制备喷涂液;(2)设置一生长室,于该生长室中设置一能使该生长室中为真空状态的真空系统;(3)于生长室中设置一用于固定需要喷涂上光散射薄膜的基底材料的沉积基板,该沉积基板与基底材料处于加热状态;(4)使用喷射系统将喷涂液朝向基板喷射到生长室中,由于真空系统的作用,该生长室中为真空状态,喷射到生长室中的喷涂液瞬间体积急剧膨胀为雾状,并具有飞向所述沉积基板的初速度,在该雾状喷涂液的飞行过程中,有机溶剂急剧挥发并被大抽速的真空泵抽走,雾状喷涂液中的为纳米粒子状态的溶胶于基底材料上形成光散射膜。 |
申请公布号 |
CN102400133A |
申请公布日期 |
2012.04.04 |
申请号 |
CN201110351813.1 |
申请日期 |
2011.11.09 |
申请人 |
东莞上海大学纳米技术研究院;上海大学 |
发明人 |
施利毅;袁帅;周才龙;赵尹;王竹仪;刘立;方建慧 |
分类号 |
C23C24/00(2006.01)I |
主分类号 |
C23C24/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京轻创知识产权代理有限公司 11212 |
代理人 |
吴英彬 |
主权项 |
一种制备光散射薄膜的方法,其特征在于,其包括以下步骤:(1)将无机纳米粉体溶解于有机溶剂中,使用物理分散方法制备成一稳定的、均匀的有机相溶胶或者将水相溶胶通过有机溶剂置换形成程一稳定的、均匀的有机相溶胶作为喷涂液;(2)设置一生长室,于该生长室中设置一能使该生长室中为真空状态的真空系统;(3)于生长室中设置一用于固定需要喷涂上光散射薄膜的基底材料的沉积基板,该沉积基板与基底材料处于加热状态;(4)使用喷射系统将喷涂液朝向沉积基板喷射到生长室中,由于真空系统的作用,该生长室中为真空状态,喷射到生长室中的喷涂液瞬间体积急剧膨胀为雾状,并具有飞向所述沉积基板的初速度,在该雾状喷涂液的飞行过程中,有机溶剂急剧挥发并被大抽速的真空泵抽走,雾状喷涂液中的为纳米粒子状态的溶胶于沉积基板上形成光散射膜。 |
地址 |
523000 广东省东莞市松山湖科技产业园松科苑9号楼一楼 |