| 发明名称 | 液晶显示设备及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种制造液晶显示设备的方法，其中用于电连接像素电极与晶体管的源电极和漏电极之一的接触孔以及用于处理半导体层的接触孔同时形成。该方法有助于减少光学成像步骤。晶体管包括其中形成有沟道形成区的氧化物半导体层。 | ||
| 申请公布号 | CN102402082A | 申请公布日期 | 2012.04.04 |
| 申请号 | CN201110283656.5 | 申请日期 | 2011.09.09 |
| 申请人 | 株式会社半导体能源研究所 | 发明人 | 山崎舜平;波多野薰 |
| 分类号 | G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I;H01L27/02(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/1362(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 钱孟清 |
| 主权项 | 一种液晶显示设备，包括柔性基板上的像素，所述像素包括：薄膜晶体管，包括：氧化物半导体层；和源电极和漏电极，它们电连接到所述氧化物半导体层；以及液晶元件，包括：像素电极，电连接到所述薄膜晶体管的所述源电极和所述漏电极之一；和所述像素电极上的液晶材料，其中，所述像素电极直接接触所述像素中所述氧化物半导体层的侧表面。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||