发明名称 Mo系溅射靶板及其制造方法
摘要 本发明通过对微量元素的含量条件和轧制条件进行组合,使变形抗力降低,进而抑制边部断裂等龟裂的发生,由此提供能以高成品率且高效地制造具有大面积的Mo系靶板。本发明的Mo系溅射靶板的制造方法是将Mo系锭进行轧制而制造溅射靶的制造方法,其特征在于,由将所含的氧浓度控制在10质量ppm~1000质量ppm来制造Mo系锭的工序、将该Mo系锭加热并在600℃~950℃的轧制温度下进行轧制的工序构成。
申请公布号 CN101611165B 申请公布日期 2012.03.21
申请号 CN200880002079.4 申请日期 2008.01.11
申请人 新日铁高新材料 发明人 稻熊彻;坂本广明;大石忠美;泉真吾;中村元
分类号 C23C14/34(2006.01)I;B22F3/15(2006.01)I;B22F3/24(2006.01)I;C22F1/18(2006.01)I;C22F1/00(2006.01)I;C22C27/04(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 周欣;陈建全
主权项 一种Mo系溅射靶板的制造方法,其是由Mo系锭制造Mo系溅射靶板的方法,其特征在于,依次实施将含氧浓度控制在10质量ppm~1000质量ppm而制造Mo系锭的工序、将该Mo系锭加热并在600℃~950℃的轧制温度下进行轧制的工序,在所述轧制工序中,每一道次的压下率为50%以下;所述含氧浓度规定为在距离锭表面100μm以上的内部进行测定而得到的值。
地址 日本东京都