发明名称 |
Mo系溅射靶板及其制造方法 |
摘要 |
本发明通过对微量元素的含量条件和轧制条件进行组合,使变形抗力降低,进而抑制边部断裂等龟裂的发生,由此提供能以高成品率且高效地制造具有大面积的Mo系靶板。本发明的Mo系溅射靶板的制造方法是将Mo系锭进行轧制而制造溅射靶的制造方法,其特征在于,由将所含的氧浓度控制在10质量ppm~1000质量ppm来制造Mo系锭的工序、将该Mo系锭加热并在600℃~950℃的轧制温度下进行轧制的工序构成。 |
申请公布号 |
CN101611165B |
申请公布日期 |
2012.03.21 |
申请号 |
CN200880002079.4 |
申请日期 |
2008.01.11 |
申请人 |
新日铁高新材料 |
发明人 |
稻熊彻;坂本广明;大石忠美;泉真吾;中村元 |
分类号 |
C23C14/34(2006.01)I;B22F3/15(2006.01)I;B22F3/24(2006.01)I;C22F1/18(2006.01)I;C22F1/00(2006.01)I;C22C27/04(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/34(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
周欣;陈建全 |
主权项 |
一种Mo系溅射靶板的制造方法,其是由Mo系锭制造Mo系溅射靶板的方法,其特征在于,依次实施将含氧浓度控制在10质量ppm~1000质量ppm而制造Mo系锭的工序、将该Mo系锭加热并在600℃~950℃的轧制温度下进行轧制的工序,在所述轧制工序中,每一道次的压下率为50%以下;所述含氧浓度规定为在距离锭表面100μm以上的内部进行测定而得到的值。 |
地址 |
日本东京都 |