发明名称 显示装置、半导体装置
摘要 本发明的目的在于提供一种开口率高的显示装置或元件面积大的半导体装置。本发明的技术要点如下:在形成在相邻的像素电极(或元件的电极)之间的布线下方形成具有多栅结构的TFT的沟道形成区域。另外,将多个沟道形成区域的沟道宽度的方向设定为与在所述像素电极形状中的长边方向平行。另外,通过使沟道宽度的长度大于沟道长度的长度,来扩大沟道形成区域的面积。
申请公布号 CN101110422B 申请公布日期 2012.03.21
申请号 CN200710136692.2 申请日期 2007.07.20
申请人 株式会社半导体能源研究所 发明人 佐藤瑞季
分类号 H01L27/02(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I 主分类号 H01L27/02(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 王以平
主权项 一种半导体装置,包括:设在相邻的电极之间的布线、驱动薄膜晶体管、以及与所述驱动薄膜晶体管连接的开关薄膜晶体管,其中,所述驱动薄膜晶体管的沟道形成区域设在所述布线的下方,所述沟道形成区域设在与所述布线重叠的位置,所述沟道形成区域的沟道宽度方向与电流流过所述布线的方向平行,并且所述驱动薄膜晶体管和所述开关薄膜晶体管都设在所述布线的下方。
地址 日本神奈川