| 发明名称 | 并三噻吩二羧酸单分子层及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明属于有机光电子器件领域，特别涉及并三噻吩二羧酸单分子层及其制备方法。配制并三噻吩二羧酸溶于二甲基亚砜的浓度为10-6mol·L-1的溶液，然后滴于新解理的云母基片上；于密闭环境中干燥后即得所述并三噻吩二羧酸单分子层。本发明是首次制备并三噻吩二羧酸单分子层；且该单分子层的制备方法操作简单、方便，利于该两种化合物在有机光电子器件中的器件化。 | ||
| 申请公布号 | CN101587938B | 申请公布日期 | 2012.03.14 |
| 申请号 | CN200910065098.8 | 申请日期 | 2009.06.02 |
| 申请人 | 河南大学 | 发明人 | 杜祖亮;王德坤;蒋晓红;王华 |
| 分类号 | H01L51/00(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I;H01L51/54(2006.01)I;H01L51/40(2006.01)I;H01L51/30(2006.01)I;H01L51/48(2006.01)I;H01L51/46(2006.01)I;C07D495/14(2006.01)I;C09K11/06(2006.01)I | 主分类号 | H01L51/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 | 代理人 | 刘建芳 |
| 主权项 | 1.并三噻吩二羧酸单分子层，其特征在于，由下法制得：配制并三噻吩二羧酸溶于二甲基亚砜的浓度为10<sup>-6</sup>mol·L<sup>-1</sup>的溶液，然后滴于新解理的云母基片上；于密闭环境中干燥后即得所述并三噻吩二羧酸单分子层；所述并三噻吩二羧酸如式a所示，为平躺式结构；<img file="FSB00000266003000011.GIF" wi="677" he="259" />或者，所述并三噻吩二羧酸如式b所示，为以一定角度取向排列在基底表面的单分子层结构，<img file="FSB00000266003000012.GIF" wi="704" he="256" /> | ||
| 地址 | 475004 河南省开封市金明大道 | ||