离子注入系统及方法

摘要

本发明公开了一种离子注入系统，其包括一离子源系统、一扫描磁铁、一质量分析磁铁、一工件传输设备；该离子源系统包括：一处于地电位的微波源，该微波源通过一波导管与一离子源相连，该波导管上设有一高压隔离装置；一处于地电位的气柜，该气柜通过一进气管与该离子源相连；一处于地电位的冷却水系统，该冷却水系统与该离子源的头部相连并用于冷却该离子源头部；一设于该离子源头部前方的离子束引出系统，该离子束引出系统包括抑制电极和地电极；一处于地电位的高压电源系统，该高压电源系统用于向该离子源头部及该抑制电极供电。本发明还公开了两种离子注入方法。本发明使得离子源系统无需整体工作于高电压下，并且能够实现最佳的生产效率。

主权项

一种离子注入系统，其包括一用于生成一离子束的离子源系统，该离子束传输于一真空腔中，在该离子束的传输路径上依次设有：一用于扫描该离子束的扫描磁铁；一质量分析磁铁，用于偏转该离子束以从中滤除超出一荷质比范围的离子；一具有至少一传输平台的工件传输设备，该传输平台用于承载工件移进该真空腔、穿过该离子束完成注入、然后移出该真空腔；其特征在于，该离子源系统包括：一处于地电位的微波源，该微波源通过一波导管与一离子源相连，该波导管上设有一高压隔离装置；一处于地电位的气柜，该气柜通过一进气管与该离子源相连；一处于地电位的冷却水系统，该冷却水系统与该离子源的头部相连并用于冷却该离子源头部；一设于该离子源头部前方的离子束引出系统，该离子束引出系统包括抑制电极和地电极；一处于地电位的高压电源系统，该高压电源系统用于向该离子源头部及该抑制电极供电。