| 摘要 |
<p>개시된 기판 처리 장치는 하부 패널을 갖는 공정 챔버와, 상기 공정 챔버 내의 기판 상으로 공정 가스를 공급하는 가스 공급부와, 상기 기판을 지지하고 가열하기 위하여 상기 공정 챔버 내에 배치되며 평판 형태를 갖는 히터와, 상기 히터의 중앙 부위를 지지하는 서포트 부재와, 상기 히터의 가장자리 부위들에 결합되어 상기 히터의 가장자리 부위들을 수직 방향으로 지지하며 상기 하부 패널 상에서 수평 방향으로 슬라이드 가능하도록 구성된 다수의 보강부들을 포함한다. 상기 히터의 가장자리 부위들에서 처짐 현상이 개선될 수 있으며, 또한 상기 히터의 수평 방향 열팽창이 제한되지 않는다.</p> |
