低氧控制系统

摘要

本发明涉及半导体生产装置领域。本发明的一种低氧控制系统，包括依次连接的氮气输送装置、循环风机和处理腔室，其中，所述处理腔室外部还连接有循环管路和氧气分析仪，所述氧气分析仪的另一入口端与氮气输送装置连接，所述循环风机上还安装有换气阀门。本发明低氧控制系统，能控制相对空间(即微环境)中的氧气浓度，从而有效控制晶片的自然氧化状况。

主权项

一种低氧控制系统，包括依次连接的氮气输送装置、循环风机和处理腔室，其特征在于，所述处理腔室外部还连接有循环管路和氧气分析仪，所述氧气分析仪的一入口端与氮气输送装置连接，所述循环风机上还安装有换气阀门；所述处理腔室上连接有排气管路，所述排气管路上安装有排气阀，所述氮气输送装置上包括有控制阀；所述低氧控制系统还包括控制系统，所述控制系统的一端与氧气分析仪连接，另一端与所述氮气输送装置上的控制阀连接，所述排气阀与控制系统连接。