| 摘要 |
<p>기판 처리 시스템은 공정 챔버, 케미컬 분사부 및 케미컬 배출부를 포함한다. 공정 챔버의 내부에는 기판이 놓여진다. 케미컬 분사부는 공정 챔버 내에서 기판의 상부에 배치되며, 기판에 케미컬을 분사하여 기판을 처리한다. 케미컬 배출부는 공정 챔버의 하측 부위에 설치되며, 기판을 처리한 케미컬을 산성 및 알칼리성에 따라 구분하여 배출시키기 위한 제1 및 제2 배출구들을 갖는다. 따라서, 케미컬의 폐기 처리 비용을 절감할 수 있다.</p> |
