| 摘要 |
<p>Ein Projektionsbelichtungssystem zur Abbildung einer Maske (2) auf ein mit einer Photoschicht (4) versehenes Substrat (5). Zur Kompensation einer Verringerung der Basisbreiten zwischen den Lackstegen gegen den Bildfeldrand hin, die durch ein zum Bildfeldrand hin abfallendes Modulationsübertragungsvermögen des Projektionsobjektives (2) hervorgerufen ist, ist ein radialer Verlauffilter (13) vorgesehen, der an jeder Stelle die Intensität des durch ihn durchtretenden Lichtes umso weniger abschwächt, je geringer das Modulationsübertragungsvermögen für jene Stelle der Maske (2) ist, die von der genannten Stelle des Verlauffilters (13) aus beleuchtet ist.</p> |
