Apparatus for atomic layer deposition comprising light source, and the method of deposition using the same

摘要

본 발명에 따르면 저온 영역에서도 박막에 포함된 불순물을 효과적으로 제거할 수 있을 뿐만 아니라, 막질을 크게 개선할 수 있게 된다. 또한 챔버내 잔류물질도 보다 효과적으로 제거할 수 있게 된다.