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发明名称
CLEANING FORMULATION FOR REMOVING RESIDUES ON SURFACES
摘要
This disclosure relates to compositions that can be used to remove residues from a semiconductor substrate.
申请公布号
US2012048295(A1)
申请公布日期
2012.03.01
申请号
US201013254944
申请日期
2010.03.09
申请人
DU BING;WOJTCZAK WILLIAM A.;FICNER STANLEY A.;FUJIFILM ELECTRONIC MATERIALS U.S.A., INC.
发明人
DU BING;WOJTCZAK WILLIAM A.;FICNER STANLEY A.
分类号
C23G1/02;C11D7/60
主分类号
C23G1/02
代理机构
代理人
主权项
地址
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