发明名称 化学机械研磨(CMP)浆料的使用点回收系统
摘要 本发明主要是关于从化学机械研磨(CMP)过程中回收研磨浆料及冲洗水的装置和方法。本发明也是关于使用离心泵来进行流变学测量及聚结预防。
申请公布号 CN102365716A 申请公布日期 2012.02.29
申请号 CN201080013937.2 申请日期 2010.03.23
申请人 应用材料公司 发明人 安德烈亚斯·纽伯;菲尔·钱德勒;克利福德·斯托;丹尼尔·O·克拉克;迈克·科菲尔;加米尔·莱斯顿
分类号 H01L21/304(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I 主分类号 H01L21/304(2006.01)I
代理机构 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人 柳春雷
主权项 一种用于回收的装置,包括:分离单元,其包括:入口,作用是收纳用过的研磨浆料、冲洗流体及研磨废料的混合物;水出口,作用是输出第一流体以便进行废料或水回收;及浆料出口,作用是输出第二流体以便进行浆料回收研磨;以及浆料过滤单元,其包括:入口,与所述分离单元的所述浆料出口连接;一种或多种过滤介质,用来过滤或移除离子及有机物;及泵,布置在所述一种或多种过滤介质上游并用来对流体加压以使其穿过所述一个或多个薄膜;产物出口,用来输出浓缩并回收的研磨浆料流;及水出口,用于水回收或废料。
地址 美国加利福尼亚州
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