首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
SEMICONDUCTOR-DEVICE MANUFACTURING METHOD AND EXPOSURE METHOD
摘要
申请公布号
KR101116544(B1)
申请公布日期
2012.02.28
申请号
KR20090129727
申请日期
2009.12.23
申请人
发明人
分类号
H01L21/027
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
一种静电放电脉冲耦合效应的在轨监测装置
一种基于碳布的柔性超级电容器的制备方法
修饰玻碳电极及其制备方法和其在检测亚硝酸根中的应用
一种高性能磁性材料
一种用于连接器的防错插结构
双层地下通道车行逃生结构
具有本地能量供应设备的电子纺织物
X射线轮毂自动检测装置及其控制方法
裂解炉COT热电偶
电机转子
一种有限脉冲响应滤波器
一种屏幕虚拟化的方法及系统
检测肿瘤细胞的流动测量系统及分析和监测方法
Energy-efficient content retrieval in content-centric networks
一种基于多指标多层次的电网投资效益评估方法
Organic light emitting device
Diazabenzo[de]anthracen-3-one compounds and methods for inhibiting PARP
A language for task-based parallel programming
Influenza hemagglutinin and neuraminidase variants
Method and kit for the classification and prognosis of chronic wounds