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发明名称
CLEANING COMPOSITION AND METHOD OF FORMING SEMICONDUCTOR PATTERN USING THE SAME
摘要
申请公布号
KR101114502(B1)
申请公布日期
2012.02.24
申请号
KR20100061120
申请日期
2010.06.28
申请人
发明人
分类号
C11D7/26;G03F7/42;H01L21/027;H01L21/306
主分类号
C11D7/26
代理机构
代理人
主权项
地址
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