发明名称 |
微型透镜阵列的制造方法和微型透镜阵列 |
摘要 |
本发明提供一种微型透镜阵列的制造方法和微型透镜阵列。该微型透镜阵列的制造方法是在一个面上具有多个突出成大致半球面状的微型透镜的微型透镜阵列的制造方法,其包括:抗蚀剂形成工序,其用于在作为微型透镜的材料层的有机膜层上形成抗蚀剂层,该抗蚀剂层用于形成微型透镜的形状;蚀刻工序,其用于使用氟混合气体对已形成的抗蚀剂层以及有机膜层进行蚀刻,该混合气体是使含有氢的分子以及含有氟素的分子混合而成的。 |
申请公布号 |
CN102362201A |
申请公布日期 |
2012.02.22 |
申请号 |
CN201080013593.5 |
申请日期 |
2010.03.11 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
吉村正太;佐佐木胜 |
分类号 |
G02B3/00(2006.01)I;B29D11/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G02B3/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇;张会华 |
主权项 |
一种微型透镜阵列的制造方法,其是在一个面上具有多个突出成大致半球面状的微型透镜的微型透镜阵列的制造方法,其中,该微型透镜阵列的制造方法包括:抗蚀剂形成工序,其在作为上述微型透镜的材料层的有机膜层上形成抗蚀剂层,该抗蚀剂层用于形成上述微型透镜的形状;蚀刻工序,其用于使用混合气体对已形成的上述抗蚀剂层以及上述有机膜层进行蚀刻,该混合气体是使含有氢的分子以及含有氟素的分子混合而成的。 |
地址 |
日本东京都 |