一种磁控溅射铁磁材料的靶材结构

摘要

本实用新型公开了一种磁控溅射铁磁材料的靶材结构，其特征在于，包括高导热背板，内靶块，外靶块和下垫靶条；所述高导热背板设有沟道，沟道的中心线对应于磁力线中心轴；内靶块与外靶块之间的间距≤60mm，间距的中心对应于磁力线中心轴，内外靶块斜面的角度为15°－65°；下垫靶条装配于所述高导热背板上的靶条沟道内，内靶块和外靶块固定在所述高导热背板上。本实用新型靶材利用率高，通用性好，具有这种结构的靶材不仅能顺利进行铁磁材料的溅射，而且能顺利地在现有的平面磁控溅射的阴极装置上实现铁磁材料的工业镀膜。

主权项

1、一种磁控溅射铁磁材料的靶材结构，其特征在于，包括高导热背板，内靶块，外靶块和下垫靶条；所述高导热背板设有沟道，所述沟道的中心线对应于磁力线中心轴；所述内靶块与外靶块之间有间距，间距的中心对应于磁力线中心轴，内外靶块设有斜面；所述下垫靶条装配于所述高导热背板上的靶条沟道内，所述内靶块和外靶块固定在所述高导热背板上。