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发明名称
照明系统
摘要
本发明提供一种用于大体均匀化一辐射光束并自该辐射光束中移除至少某些相干性之系统及方法。
申请公布号
TWI358615
申请公布日期
2012.02.21
申请号
TW095143977
申请日期
2006.11.28
申请人
ASML荷兰公司 荷兰;ASML控股公司 荷兰
发明人
贾库巴 菲德利克 菲索 克林哈玛;理孚 瑞理考夫;修伯特 维瑟;史考特 库斯东;艾达 裘布;亨利 乔汉那斯 皮楚 明克;叶伊慈 康斯坦那屈 薛玛
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
荷兰
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