发明名称 配线以及层间连接孔之形成方法
摘要 【课题】当经由电镀而在基板上形成配线又或是层间连;接通孔时,能够减轻将不必要之金属层除去的作业。;【解决手段】在使用于电镀中之电镀液处,添加添加;剂。添加剂,系具备有抑制电镀反应之功能,并具备有随着电镀反应之进行而使抑制电镀反应之功能减少的特性。添加剂,系具备有使金属之析出过电压增大之功能,并具备有随着反应之进行而使金属之析出过电压减小的特性。藉由此,能够在被形成于基板上之沟以及凹部处来将金属选择性的析出。当在基板上形成配线又或是层间连接通孔时,系在基板上形成具备有特定之表面粗度的沟以及凹部。
申请公布号 TWI358980 申请公布日期 2012.02.21
申请号 TW097129857 申请日期 2008.08.06
申请人 日立电线股份有限公司 日本 发明人 端场登志雄;赤星晴夫;铃木齐;珍田聪
分类号 H05K3/40 主分类号 H05K3/40
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本