发明名称 |
Laterales Halbleiterbauelement mit niedrigem Einschaltwiderstand |
摘要 |
Halbleiterbauelement, das aufweist: – einen Halbleiterkörper (100) mit einer ersten lateralen Richtung (x), – eine erste Bauelementzone (12; 71) und eine zweite Bauelementzone (14), die in der ersten lateralen Richtung (x) des Halbleiterkörpers (100) beabstandet zu der ersten Bauelementzone (12) angeordnet ist, – wenigstens eine Driftzone (11), die zwischen der ersten und zweiten Bauelementzone (12, 14) angeordnet ist, wobei die erste Bauelementzone (12; 71) mit der Driftzone einen Bauelementübergang bildet, ausgehend von dem sich bei Anlegen einer Sperrspannung zwischen der Driftzone (11) und der ersten Bauelementzone (12) eine Raumladungszone in der Driftzone (11) ausbreitet, – eine Driftsteuerzone (41) aus einem Halbleitermaterial, die benachbart zu der wenigstens einen Driftzone (11) in dem Halbleiterkörper (104) angeordnet ist und die an die zweite Bauelementzone (14) gekoppelt ist, – ein Akkumulationsdielektrikum (51), das zwischen der wenigstens einen Driftzone (11) und der wenigstens einen Driftsteuerzone (41) angeordnet...
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申请公布号 |
DE102006009942(B4) |
申请公布日期 |
2012.02.09 |
申请号 |
DE200610009942 |
申请日期 |
2006.03.03 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG |
发明人 |
SEDLMAIER, STEFAN, DR.;MAUDER, ANTON, DR.;WILLMEROTH, ARMIN;PFIRSCH, FRANK, DR.;SCHULZE, HANS-JOACHIM, DR.;HIRLER, FRANZ, DR. |
分类号 |
H01L29/78;H01L29/06;H01L29/739;H01L29/861 |
主分类号 |
H01L29/78 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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