发明名称 |
微光刻投射曝光设备 |
摘要 |
一种微光刻投射曝光设备(10)包括由多个微反射镜(Mij)形成的光学表面以及配置来在多个位置处测量与所述光学表面相关的参数的测量装置。所述测量装置包括包含多个照明部件(104、118)的照明单元(92),每个照明部件具有光出射面(106)。光学成像系统(110)在其中布置了至少两个光出射面(106)的物平面(108)与至少与所述光学表面基本重合的像平面(112)之间建立成像关系。检测器单元(96)在测量光已与所述光学表面相互作用之后测量所述测量光的特性,并且评估单元(102)基于所述检器单元(96)确定的特性对每个位置确定与所述表面相关的参数。 |
申请公布号 |
CN102349026A |
申请公布日期 |
2012.02.08 |
申请号 |
CN200980157991.1 |
申请日期 |
2009.03.13 |
申请人 |
卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
发明人 |
马库斯.德冈瑟;迈克尔.帕特拉;安德拉斯.G.梅杰 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
邱军 |
主权项 |
一种微光刻投射曝光设备,包括光学表面(46;M6)以及配置来在所述光学表面上的多个位置处测量与所述光学表面相关的参数的测量装置(90),所述测量装置包括:a)照明单元(92),包括i)多个照明部件(103),其中每个照明部件具有配置来发射测量光(94)的光出射面(106),以及ii)光学成像系统(110),所述光学成像系统在其中布置了至少两个光出射面(106)的物平面(108)与至少与所述光学表面基本重合的像平面(112)之间建立成像关系,由此在所述光学表面上产生多个测量光斑,所述测量光斑是所述至少两个光出射面(106)的像;b)检测器单元(96),其被配置来在测量光已经在所述测量光斑点处与所述光学表面相互作用之后测量所述测量光的特性;c)评估单元(102),其被配置来基于所述检测器单元(96)确定的所述测量光的特性对每个位置确定与所述表面相关的参数。 |
地址 |
德国上科亨 |