发明名称 半导体器件及其制造方法
摘要 本发明提供一种半导体存储器件,其中,在一对电极之间夹着包含有机化合物的层,并且在所述一对电极之间夹着包含第一金属氧化物的第一层和包含第二金属氧化物的第二层。包含所述金属氧化物的所述两个层中的一个用作p型半导体层,而另一个用作n型半导体层。包含所述第一金属氧化物的所述第一层和包含所述第二金属氧化物的所述第二层构成PN结,以对所述半导体存储器件供应整流特性。
申请公布号 CN101097935B 申请公布日期 2012.02.08
申请号 CN200710127086.4 申请日期 2007.06.28
申请人 株式会社半导体能源研究所 发明人 野村亮二;徳永肇;加藤清
分类号 H01L27/28(2006.01)I;H01L51/05(2006.01)I;H01L51/40(2006.01)I 主分类号 H01L27/28(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 王以平
主权项 一种半导体器件,所述半导体器件包括存储元件,所述存储元件包括:第一电极;在所述第一电极上的包含第一金属氧化物的第一层;在所述第一层上的包含第二金属氧化物的第二层;在所述第二层上的包含有机化合物的有机层;以及在所述有机层上的第二电极,其中,所述第一金属氧化物和所述第二金属氧化物中的一个是p型半导体,另一个是n型半导体。
地址 日本神奈川