发明名称 |
反射式电泳显示装置的画素结构及其制作方法 |
摘要 |
本发明涉及一种制作反射式电泳显示装置的画素结构的方法。首先,依序形成一第一金属图案层、一绝缘层、一半导体图案层与一第二金属图案层于一基板上。接着,覆盖一保护层于基板、半导体图案层与第二金属图案层上,且形成一有机光阻图案层于保护层上,其中有机光阻图案层具有一第一接触洞,曝露出保护层。随后,以有机光阻图案层为屏蔽,移除曝露出的保护层,以于保护层中形成一第二接触洞,并曝露出第二金属图案层。接着,依序形成一第三金属图案层与一透明导电图案于有机光阻图案层与曝露出的第二金属图案层上。 |
申请公布号 |
CN102339794A |
申请公布日期 |
2012.02.01 |
申请号 |
CN201110308058.9 |
申请日期 |
2011.10.12 |
申请人 |
华映光电股份有限公司;中华映管股份有限公司 |
发明人 |
邱羡坤;林宜纬;锺明宗;杜英宗 |
分类号 |
H01L21/77(2006.01)I;G02F1/167(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/77(2006.01)I |
代理机构 |
福州元创专利商标代理有限公司 35100 |
代理人 |
蔡学俊 |
主权项 |
一种制作反射式电泳显示装置的画素结构的方法,其特征在于,包括:提供一基板;形成一第一金属图案层于该基板上;形成一绝缘层于该第一金属图案层与该基板上;形成一半导体图案层与一第二金属图案层于该绝缘层上;覆盖一保护层于该基板、该半导体图案层与该第二金属图案层上;形成一有机光阻图案层于该保护层上,且该有机光阻图案层具有一第一接触洞,曝露出该保护层;以该有机光阻图案层为一屏蔽,移除曝露出的该保护层,以于该保护层中形成一第二接触洞,并曝露出该第二金属图案层;形成一第三金属图案层于该有机光阻图案层与曝露出的该第二金属图案层上;以及形成一透明导电图案层于该第三金属图案层上,且该透明导电图案层覆盖该第三金属图案层。 |
地址 |
350015 福建省福州市马尾区科技园区兴业路1号 |