发明名称 一种非晶硅薄膜太阳电池组件的制备方法
摘要 一种非晶硅薄膜太阳电池组件的制备方法涉及太阳能应用技术领域。电池组件是按TCO玻璃层、非晶硅层、AZO膜层、PVB胶层、钢化玻璃层、AZO膜层、非晶硅层、TCO层和聚酰亚胺PI层依次排列。它可有效提高非晶硅太阳电池单位面积上的发电量,使其应用的范围更加广泛。
申请公布号 CN102339910A 申请公布日期 2012.02.01
申请号 CN201110297674.9 申请日期 2011.09.27
申请人 牡丹江旭阳太阳能科技有限公司 发明人 薛泳波;李鹏;林宏达;王恩忠;甄雁卉
分类号 H01L31/20(2006.01)I 主分类号 H01L31/20(2006.01)I
代理机构 牡丹江市丹江专利事务所 23205 代理人 张雨红
主权项 一种非晶硅薄膜太阳电池组件的制备方法,其特征在于,电池组件是按TCO玻璃层、非晶硅层、AZO膜层、PVB胶层、钢化玻璃层、AZO膜层、非晶硅层、TCO层和聚酰亚胺PI层依次排列,制备方法包括以下步骤:a、选取TCO玻璃,进行激光划刻后送入PECVD,沉积非晶硅层,对非晶硅层进行激光划刻;b、SPUTTER工艺腔室压强控制在(1~1.5)*10‑6mbar,AZO靶材与电池基板间距80~90mm,通入纯度4N5以上的Ar气体,流量为300~350slh,溅射AZO膜,膜厚500~600nm;c、激光划刻AZO背电极,使整个电池的发电层与前后电极导通,在背电极侧焊接电池正负引线,并将引线引至电池板上沿,电池后铺PVB胶,厚度为0.6~0.8mm,叠片背板钢化玻璃后送入高压釜进行层压;d、在钢化玻璃一侧沉积AZO膜层,膜厚500~600nm,激光划刻AZO层;e、送入PECVD沉积非晶硅层,沉积顺序依次为n层、i层和p层,n层厚度30~50nm,i层厚度200~300nm,p层厚度10~20nm,激光划刻非晶硅层;f、沉积TCO层,厚度700~800nm,激光划刻TCO层,使其与非晶硅、AZO层形成电路导通,在TCO膜层焊接电极引线,引至电池板上沿与前侧电池电极并联后接至接线盒;g、TCO上方使用聚酰亚胺PI透明基片进行封装,两块电池引线串联后引入接线盒。
地址 157000 黑龙江省牡丹江市阳明区裕民路南莲花北路东对俄贸易加工园区