光刻设备

摘要

一种设备、设计所述设备的方法、使用所述设备的工具以及在集成电路形成期间将所述设备用于优化光刻的方法。所述设备包含：非对称互补偶极元件(115)，其包含：第一和第二开口(215A，215B)，与第一轴(x)等距离并且是关于所述第一轴的镜像图像，所述第一和第二开口具有基本上相同的第一面积和相对于选择的光波长的相同的第一光密度；第三和第四开口(220A，220B)，与第二轴(y)等距离并且是关于第二轴的镜像图像，所述第三和第四开口具有基本上相同的第二面积和相对于所述选择的光波长的相同的第二光密度；以及其中所述第一轴与所述第二轴垂直，并且所述第一和第二光密度不同。

主权项

一种光刻设备，包含：非对称互补偶极元件，其包含：第一和第二开口，与第一轴等距离并且是关于所述第一轴的镜像图像，所述第一和第二开口具有基本上相同的第一面积和相对于选择的光波长的相同的第一光密度；第三和第四开口，与第二轴等距离并且是关于第二轴的镜像图像，所述第三和第四开口具有基本上相同的第二面积和相对于所述选择的光波长的相同的第二光密度；以及其中所述第一轴与所述第二轴垂直，并且所述第一和第二光密度不同。