| 发明名称 |
Method of fabricating MEMS devices (such as IMod) comprising using a gas phase etchant to remove a layer |
| 摘要 |
Improvements in an interferometric modulator that cavity defined by two walls. |
| 申请公布号 |
US8105496(B2) |
申请公布日期 |
2012.01.31 |
| 申请号 |
US20080031603 |
申请日期 |
2008.02.14 |
| 申请人 |
MILES MARK W;QUALCOMM MEMS TECHNOLOGIES, INC. |
发明人 |
MILES MARK W |
| 分类号 |
C23F1/00;B81C1/00;G01J3/26;G02B6/12;G02B26/00;G02B26/02;G02B26/08;G02F1/137;G02F1/21;G09G3/20;G09G3/34 |
主分类号 |
C23F1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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