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<p>Procédé de dépôt d'un système de couches ayant des caractéristiques de fonctionnement à sec améliorées sur la surface d'un substrat, caractérisé en ce qu'il comporte au moins les étapes de procédé suivantes : - dépôt galvanique d'une couche de chrome dur (3, 5) sur la surface supérieure d'un substrat (1) en appliquant un courant de dépôt pulsé, - application d'une couche DLC (4) sur la couche de chrome dur, déposée par dépôt galvanique en utilisant le procédé PVD ou le procédé CVD.</p> |
